英诺赛科成英伟达800V架构唯一中国芯片供应商,合作推进AI数据中心兆瓦级供电应用

AI快讯5天前发布 ai-tab
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一、产品介绍

英诺赛科(Innoscience)作为全球领先的氮化镓(GaN)功率半导体IDM企业,近期正式入选英伟达800V HVDC架构核心供应商名单,成为该生态中唯一中国芯片合作伙伴

英伟达的Kyber机架系统是其为下一代AI数据中心设计的革命性供电架构,旨在解决传统54V电源在兆瓦级算力集群中的能耗与空间瓶颈。而英诺赛科凭借全链路GaN电源解决方案,覆盖800V输入至GPU终端的电压转换(15V-1200V),成为英伟达重构AI供电体系的关键技术支撑。

英诺赛科成英伟达800V架构唯一中国芯片供应商,合作推进AI数据中心兆瓦级供电应用

二、适用人群

  • AI数据中心运营商:需提升能效与算力密度的技术团队
  • 半导体行业从业者:关注第三代半导体技术落地的研发人员
  • 新能源与工业电源工程师:探索高功率密度设计的实践者
  • 科技投资者:追踪半导体产业链突破的投资机构

三、核心功能与技术实现

英诺赛科的800V GaN解决方案通过以下技术创新实现能效跃升:

功能模块技术原理性能提升
高压直连架构将13.8kV交流电直接转换为800V直流,减少AC/DC多级转换环节端到端能效提升5%
三级DC-DC转换高压/中压/低压分级架构,覆盖电网到GPU的全链路高频效率达98.5%
氮化镓功率器件采用8英寸GaN-on-Si晶圆,导通电阻低、开关速度快的特性降低热损耗铜缆用量减少45%
空间优化设计消除机架内AC/DC电源单元(PSU),释放空间容纳更多计算资源机房面积缩减40%
兆瓦级供电支持通过800V HVDC母线槽传输电流,降低电阻损耗,支持单机柜功率密度突破300kW算力密度提升10倍

技术细节解析

  1. GaN材料优势
    氮化镓的宽禁带特性(3.4eV)使其耐压能力远超传统硅基器件,同时实现零反向恢复电荷,减少开关损耗。
  2. IDM全链整合
    英诺赛科自主掌控衬底、外延生长、芯片制造到封装测试全流程,8英寸晶圆良率达95%,成本降低40%,保障高一致性交付。
  3. 热管理优化
    电流需求降低减少电阻发热,配合三级转换架构的电磁兼容设计,冷却能耗下降30%。

四、工具使用技巧

场景1:AI数据中心部署

  • 架构过渡方案
    现有54V架构可通过增设工业级整流器(13.8kV AC→800V DC)逐步升级,兼容旧机柜。
  • 空间再分配
    原电源架占用的64U空间可置换为计算单元,单机柜GPU密度提升3倍。

场景2:能效监控

  • 动态负载调节
    利用GaN器件高频响应特性,实时匹配AI工作负载的峰值功率需求,避免过载宕机。

五、访问地址


行业影响
这一合作标志着中国半导体企业首次深度参与全球AI基础设施标准制定。随着2027年800V HVDC架构的全面投产,英诺赛科的产能扩张计划(月产能从1.3万片增至7万片)将加速兆瓦级数据中心普及,推动AI算力成本降低30%。


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